Partnership TNO-Ushio voor euv-lithografie

0

TNO en de Japanse lichtbronspecialist Ushio gaan samen extreme ultraviolet (euv)-lithografie ontwikkelen voor de productie van de volgende generatie halfgeleiders. Zij bouwen in Delft een belichtings- en analysefaciliteit voor experimenteel onderzoek naar het effect van euv-licht op de optica en componenten en materialen voor de verwerking van halfgeleiders. Uiteindelijk doel is de ontwikkeling van systemen, maskers en membranen (‘pellicles’) te versnellen.

Share.

Reageer

CAPTCHA Image

Reload Image

Deze website gebruikt Akismet om spam te verminderen. Bekijk hoe je reactie-gegevens worden verwerkt.